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第267章 贡献(1 / 2)

 新的理论、新的技术,意味着一切旧的理论和技术都要推倒重来。

原本的芯片,其原材料是以硅为主的硅基芯片。

而光刻机,并不是按字面的意思去理解,用光来雕刻。

激光雕刻机?

不是的。

光刻机它其实类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

而芯片7n、10n指的是采用7n、10n制程的一种芯片。n是单位纳米的简称。

比如7n,指的是形成的互补氧化物金属半导体场效应晶体管栅极的宽度,也被称为栅长。

栅长最小,技术要求越高,其芯片性能也越好。

光刻机生产集成电路的大概流程,先用模版去除制作硅半导体电路所用的硅晶片的保护膜。

再将硅晶片浸泡在腐化剂中,让失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。还要用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。

这是传统的芯片制造工艺。

现在,更小的芯片制造已不是以硅为主,而是石墨烯。

石墨烯芯片作为电流载体,其速度更快,等比缩小更优异。

现在更小更快的芯片,就是以石墨烯芯片为研究方向。

而玛雨星帝国的低级芯片技术,就是以石墨烯为主的一种新型材料。

金石墨烯!

由此看来,地球对芯片技术的研究方向其实也是对的。从硅基芯片到石墨烯芯片。再未来,是否能到金石墨烯芯片,就不得而知了。

也许会找到另一种材料,也许就是金石墨烯材料。

按照墨华兑换出的技术理论说明,石墨烯的极限也就是1n。想要再发展到1n以下,那就是难上加难了。

不是石墨烯做不到,而是用传统的工艺方法,做不到。

之前说过,多少n说的是形成的互补氧化物金属半导体场效应晶体管栅极的宽度。

1纳米相当于五万分之一头发粗细。

这么细的宽度,还要再细,传统工艺的制造工具的精度上就无法保证。

所以,想要低于1n,不仅要改进材料,还要改进工艺。

金石墨烯,就是这样应运而生。

只有用金石墨烯制造出1n芯片的技术成熟,才有可能进一步发展,制造出1n以下的芯片。

而兑换出的技术当中,全新的光刻机其实已经可以说不叫光刻机了。只是系统转换玛雨星帝国技术过来时,顺手就用了地球上原来类似的名词名称。

为什么墨华说可以绕开专利封锁,为什么说和地球所有芯片的发展完全不同?

就因为,用来制造金石墨烯芯片的光刻机,其工作原理已经完全不同。

用模版去除制作硅半导体电路所用的硅晶片的保护膜?

不,不需要!

泡在腐化剂,让失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路?

不,不是这样!

全新的光刻机,需要一个磁场,需要一个高温场,需要一个低温场。

整个光刻机,基本上可以说是一个磁场环境。

将石墨烯和黄金置于强磁场中,利用高温场让石墨烯原子处于活跃状态。

融化黄金,利用激光照射,光子定位,用磁场控制,使金原子进入石墨烯当中,与石墨烯原子一起按集成电路模版要求排列。

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